雙堿法煙氣脫硫工藝主要包括吸收劑制備和補充系統(tǒng)，煙氣系統(tǒng)， SO2 吸收系統(tǒng)，脫硫石膏脫水處理系統(tǒng)和電氣與控制系統(tǒng)五部分組成。

　　A 、 吸收劑制備及補充系統(tǒng) 脫硫裝置啟動時用氫氧化鈉作為吸收劑，氫氧化鈉干粉料加入堿液罐中，加水配制成氫氧化鈉堿液，堿液被打入返料水池中，由泵打入脫硫塔內(nèi)進行脫硫，為了將用鈉基脫硫劑脫硫后的脫硫產(chǎn)物進行再生還原，需用一個制漿罐。制漿罐中加入的是石灰粉，加水后配成石灰漿液，將石灰漿液打到再生池內(nèi)，與亞硫酸鈉、硫酸鈉發(fā)生反應。在整個運行過程中，脫硫產(chǎn)生的很多固體殘渣等顆粒物經(jīng)渣漿泵打入石膏脫水處理系統(tǒng)。由于排走的殘渣中會損失部分氫氧化鈉，所以，在堿液罐中可以定期進行氫氧化鈉的補充，以保證整個脫硫系統(tǒng)的正常運行及煙氣的達標排放。為避免再生生成的亞硫酸鈣、硫酸鈣也被打入脫硫塔內(nèi)容易造成管道及塔內(nèi)發(fā)生結(jié)垢、堵塞現(xiàn)象，可以加裝瀑氣裝置進行強制氧化或特將水池做大，再生后的脫硫劑溶液經(jīng)三級沉淀池充分沉淀保證大的顆粒物不被打回塔體。另外，還可在循環(huán)泵前加裝過濾器，過濾掉大顆粒物質(zhì)和液體雜質(zhì)。

　　B 、 煙氣系統(tǒng) 鍋爐煙氣經(jīng)煙道進入除塵器進行除塵后進入脫硫塔，洗滌脫硫后的低溫煙氣經(jīng)兩級除霧器除去霧滴后進入主煙道，經(jīng)過煙氣再熱后由煙囪排入大氣。當脫硫系統(tǒng)出現(xiàn)故障或檢修停運時，系統(tǒng)關(guān)閉進出口擋板門，煙氣經(jīng)鍋爐原煙道旁路進入煙囪排放。

　　C 、 SO2 吸收系統(tǒng) 煙氣進入吸收塔內(nèi)向上流動，與向下噴淋的石灰石漿液以逆流方式洗滌，氣液充分接觸。脫硫塔采用內(nèi)置若干層旋流板的方式，塔內(nèi)最上層脫硫旋流板上布置一根噴管。噴淋的氫氧化鈉溶液通過噴漿層噴射到旋流板中軸的布水器上，然后堿液均勻布開，在旋流板的導流作用下，煙氣旋轉(zhuǎn)上升，與均勻布在旋流板上的堿液相切，進一步將堿液霧化，充分吸收 SO2 、 SO3 、 HCl 和 HF 等酸性氣體，生成 NaSO3 、 NaHSO3 ，同時消耗了作為吸收劑的氫氧化鈉。用作補給而添加的氫氧化鈉堿液進入返料水池與被石灰再生過的氫氧化鈉溶液一起經(jīng)循環(huán)泵打入吸收塔循環(huán)吸收 SO2 。 在吸收塔出口處裝有兩級旋流板(或折流板)除霧器，用來除去煙氣在洗滌過程中帶出的水霧。在此過程中，煙氣攜帶的煙塵和其它固體顆粒也被除霧器捕獲，兩級除霧器都設有水沖洗噴嘴，定時對其進行沖洗，避免除霧器堵塞。

　　D 、 脫硫產(chǎn)物處理系統(tǒng) 脫硫系統(tǒng)的最終脫硫產(chǎn)物仍然是石膏漿 ( 固體含量約 20 % ) ，具體成分為 CaSO3 、 CaSO4 ，還有部分被氧化后的鈉鹽 NaSO4 。從沉淀池底部排漿管排出，由排漿泵送入水力旋流器。由于固體產(chǎn)物中摻雜有各種灰分及 NaSO4 ，嚴重影響了石膏品質(zhì)，所以一般以拋棄為主。在水力旋流器內(nèi)，石膏漿被濃縮 ( 固體含量約 40 % ) 之后用泵打到渣處理場，溢流液回流入再生池內(nèi)。

　　E 、 電氣與控制系統(tǒng) 脫硫裝置動力電源自電廠配電盤引出，經(jīng)高壓動力電纜接入脫硫電氣控制室配電盤。在脫硫電氣控制室，電源分為兩路，一回經(jīng)由配電盤、控制開關(guān)柜直接與高壓電機 ( 漿液循環(huán)泵 ) 相連接。另一回接脫硫變壓器，其輸出端經(jīng)配電盤、控制開關(guān)柜與低壓電器相連接，低壓配電采用動力中心電動機控制中心供電方式。 系統(tǒng)配備有低壓直流電源為電動控制部分提供電源。 脫硫系統(tǒng)的脫硫劑加料設備和旋流分離器實行現(xiàn)場控制，其它實行控制室內(nèi)脫硫控制盤集中控制，亦可實現(xiàn)就地手動操作。 正常運行時，由立式控制盤自動控制各個調(diào)節(jié)閥，控制脫硫系統(tǒng)石灰供應量和氫氧化鈉補給量，要在鍋爐負荷變動時能自動予以調(diào)節(jié)。煙氣量的控制是根據(jù)鍋爐排煙量，由引風機入口擋板通過鍋爐負荷信號轉(zhuǎn)換為煙氣量與實際引入脫硫裝置的煙氣量反饋信號控制。吸收劑漿液流量的控制是通過進入脫硫裝置的 SO2 量以及循環(huán)漿池中漿液的 PH 值來控制的。副產(chǎn)品漿液供給量通過吸收劑漿液的流量來控制。除霧裝置清洗水的流量、吸收室入口沖洗水的壓力以及脫水機排出液流量單獨控制。脫硫塔底部的液位亦屬于單獨控制，即通過補給水量來控制。吸收劑漿池濃度的控制由補給水量調(diào)節(jié)給料器的轉(zhuǎn)速以控制石灰加入量，繼而達到控制濃度的目的。吸收室出口除霧器的清洗是按一定的時間間隔開關(guān)噴水閥用補充給水進行沖洗。

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